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展会信息
第三届国际背光技术(上海)展览会

作者:

来源:

深圳照明

日期:

2013/8/5

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第三届国际背光技术(上海)展览会
 The 3nd International Backlight Technology (Shanghai)Expo


展览时间:2014年5月20日至22日
展会地点:上海世博展览馆(浦东新区国展路1099号)
主办单位:正亚展览机构
组织单位:上海富亚展览有限公司、广州正亚展览有限公司、台湾光电半导体产业协会
同期举办:第十届国际模切(上海)展览会
展会网址:www.fyexpo.com


【亚洲唯一背光技术展】    
   亚洲唯一以“背光技术”为主题的展会,致力于提高背光模组、面板灯、超薄灯箱的制造技术。全面展示背光模组、面板灯、超薄灯箱的制造材料与技术设备。您不可错过的展会。

   在显示技术不断进步的今天,背光技术的高性能(高亮度化、轻薄化、高效节能等)已成当今庞大显示行业主流应用 技术。从大中小尺寸的显示产品如手机、PDA、数字相机(DSC)、车载显示器、液晶显示器、液晶电视等已普及应用,再 到平板灯/面板灯行业的背光技术延伸应用,无不显现背光技术的魅力身影。


   第三届国际背光技术(上海)展览会,简称「APFE2014上海展」,将于2014年5月20-22日在上海世博展览馆举办,是 亚洲唯一背光技术展,将面向显示背光模组,面板灯等行业全方位面展示导光板、光学膜、光源、组装、检测及加工技 术的专业大展,同期与“第十届国际模切展(全球最大)”隆重开展,涉及展览总规模达18,000平方米,700多家展商 预计将有来自国内外超过20,000人次的专业观众到场参观。2014年5月的上海,我们盛情邀请您以参展、参观、采购、 交流合作等各种形式来到[APFE2014]!

【展会背景】
   上届「背光技术展」已于上海世博展览馆成功举办,成为全球首创的背光技术展,得到国内外背光技术领域品牌企 业大力支持,如英国TEKNEK、特弘众普、德国亚德科、迎辉光电、凯鑫森、台湾郡威、杨琦机械、HI-LAND、WELL、 SEKISUI、FUJI SHOKO、日本MEGARO、香港君凌、岱棱、三工光电、豪晶、博业、SYSCO、东芝、康得新、布雷德、菲斯 特、民特英、赛德、德龙、中电二所、福和达、富鑫林等上百家企业参展。大会共接待来自终端电子制造商、手机、电 脑、家电、面板、背光模组、液晶显示模块、平板灯、模切材料供应商等近20,000名观众到场参观,成为光电显示行业 设计开发、贸易合作、产品采购和技术交流的高效对接平台。


【展览范围】
   导光板/扩散板、光学膜、光源、背光部件/材料相关的成型、组装、检测仪器等设备以及背光模组及面板灯等。

 

【展位规格及参展收费标准】
T区(国际展区): USD 2800/9㎡展位/展期   光地(36平方米起租):国际展区 USD 280/㎡/展期
A区(国内企业): RMB 9800/9㎡展位/展期   光地(36平方米起租):国内企业  RMB 1000/㎡/展期

【APFE2014】联络机构:
正亚展览有限公司(背光展始创者)
联系人:叶飞  15121117685
E-mail:zyexpo_tim@163.com
网址:
www.fyexpo.com
地址:上海市曹安路1855号1017室



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